光刻

光刻(Photolithography)是半导体制造中将掩模版上的电路图形,通过光学系统投射并转印到涂有光刻胶的晶圆表面的核心工艺。

概述

它依次经过涂胶、曝光、显影等步骤,配合刻蚀与离子注入,反复叠加形成多层电路;其精度直接决定芯片的最小线宽。

特点

是整条产线最复杂、最昂贵的环节之一,分辨率受光源波长与光学系统限制,推动着波长从紫外向深紫外、极紫外演进。

• 电路图形转印
• 决定最小线宽
• 工艺最复杂昂贵